1.062.212
kiadvánnyal nyújtjuk Magyarország legnagyobb antikvár könyv-kínálatát
Alapvető eljárások 2.
Ionimplantáció
Budapest
| Kiadó: | Országos Műszaki Információs Központ és Könyvtár |
|---|---|
| Kiadás helye: | Budapest |
| Kiadás éve: | |
| Kötés típusa: | Tűzött kötés |
| Oldalszám: | 60 oldal |
| Sorozatcím: | Mikroelektronikai technológiai füzetek |
| Kötetszám: | 2 |
| Nyelv: | Magyar |
| Méret: | 24 cm x 16 cm |
| ISBN: | 963-592-459-3 |
| Megjegyzés: | Megjelent 500 példányban. Fekete-fehér ábrákkal illusztrált. |
Értesítőt kérek a kiadóról
Értesítőt kérek a sorozatról
A beállítást mentettük,
naponta értesítjük a beérkező friss
kiadványokról
naponta értesítjük a beérkező friss
kiadványokról
A beállítást mentettük,
naponta értesítjük a beérkező friss
kiadványokról
naponta értesítjük a beérkező friss
kiadványokról
Előszó
Ebben a nagy fejezetben azokat az alapvető technológiai eljárásokat foglaljuk össze, amelyeket megfelelő sorrendben alkalmazva valamilyen félvezető eszköz technológiáját kapjuk. Az egyes eszközök,... TovábbElőszó
Ebben a nagy fejezetben azokat az alapvető technológiai eljárásokat foglaljuk össze, amelyeket megfelelő sorrendben alkalmazva valamilyen félvezető eszköz technológiáját kapjuk. Az egyes eszközök, diódák, tranzisztorok, integrált áramkörök technológiája egymástól ugyan eltér, mégis olyan fizikai-kémiai folyamatokra épül, amelyek az eszközök előállításánál többször is előfordulnak. Kicsit részletesebben:a termikus oxidációt, az adalékdiffuziót és a fotoreziszt-technológiát gyakorlatilag minden eszköznél alkalmazzuk. Ugyanakkor ezek a műveletek pl. a planár tranzisztor gyártása során többször is előfordulnak, az oxidációt háromszor, a fotoreziszt-technológiát négyszer is alkalmazzuk; az adalékdiffúzió két változatban fordul elő. A fentiek alapján nyilvánvaló, hogy az eszközcentrikus tárgyalás nem vezet célra. Hozzá kell tenni, hogy a technológiai folyamatok tárgyalása más szempontból is messzebbre mutat, mint az eszközcentrikus tárgyalás. Ezek a folyamatok nemcsak a szilícium alapú eszközök előállításában juthatnak szerephez, hanem pl. GaAs alapú eszközöknél is. Általában az említett technológiai műveletek (pl. fotoreziszt-technológia) nem kötődnek szigorúan a szilíciumhoz, sőt a félvezető-technológiához sem, ezért fontosnak tartjuk az eljárások elvi alapjait összefoglalni, ugyanakkor az alkalmazást általában a szilícium-eszköztechnológián fogjuk bemutatni. Az alapvető technológiai eljárásokat (meglehetősen önkényesen) a folyamat jellege, fizikai-kémiai alapelve szerint az alábbi csoportokban ismertetjük:- oxidnövesztési módszerek
- adalékanyagok diffúziója
- ionimplantáció - kémiai gőz fázisú réteg leválasztása
- fém hálózat kialakítása Külön fejezetben ismertetjük a szereléstechnikai eljárásokat, majd eszköztechnológiákat: a bipoláris és MOS technológiák legelterjedtebb változatait. Vissza
Tartalom
1. Bevezetés 71.1. Ionimplantáció mint nem egyensúlyi művelet 7
1.2. Történeti áttekintés 8
1.3. Az ionimplantáció alkalmazása 8
2. Az ionimplantáció berendezései 9
2.1. Az ionimplanterek fajtái 10
2.2. Kis és közepes áramú ionimplanterek 12
2.3. Ionforrások 13
3. Az ionimplantáció hatása szilárdtestekre 14
3. 1. A csatornahatás 15
3.2. Implantált ionok eloszlása szilárdtestekben 18
3.21 Fékező mechanizmusok 19
3. 22. Az adalékeloszlás meghatározása 24
3.3. Az ütközéses (recoil) implantáció 28
3. 4. A céltárgy porlódása ionimplantáláskor 29
4. Az implantált ionok újraeloszlása 31
5. Az ionimplantáció okozta rácskárosodás 33
5. 1 A rácshibák létrejötte és fajtái 33
5. 2. A rácskárosodás mélységfüggése 35
5.3 Rács regeneráló hőkezelési eljárások 36
5.31 A roncsolt réteg visszanövésének sebessége 37
5.32 Kétlépéses hőkezelés, "tökéletes" adalékolás 38
5.33 Hőkezelés besugárzással 38
5. 4 A hőkezelés után is megmaradó rácskárosodás 41
5. 5 Implantált adalékok elektromos aktiválása 42
6. Az ionimplantáció alkalmazásai 43
6. 1. Félvezető-technológiai alkalmazások 44
6. 11 Példa az ionimplantáció kis dózisú alkalmazására: a MOS technológia 46
6. 12 Példa az ionimplantáció nagy dózisú alkalmazására: I2L 49
6.13 lonimplantáció galliumarzenidbe 53
6.2. Ionimplantáció alkalmazása fémekben 54
6.21 Fémek mechanikai tulajdonságainak megváltoztatása ionimplantációval 55
6.22 Korrózióállóság növelése implantációval 55
6.23 Fémek elektromos tulajdonságainak megváltoztatása 56
6. 3. lonimplantáció alkalmazása optikai anyagokban 56
6.4. Egyéb alkalmazások 57
Irodalomjegyzék 58
Témakörök
Megvásárolható példányok
Nincs megvásárolható példány
A könyv összes megrendelhető példánya elfogyott. Ha kívánja, előjegyezheti a könyvet, és amint a könyv egy újabb példánya elérhető lesz, értesítjük.
Folytatás Microsoft-tal